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Technology

Coating

真空蒸着

真空蒸着

真空蒸着は高真空容器の中で物質を加熱し、蒸気化した物質を基板に付着させる技術です。
ここで高真空と申します圧力は10-4Pa(大気圧のおよそ1億分の1の圧力)を指します。また、スパッタに比べ成膜速度が速いことも特徴ですさらに、膜応力が小さいことも特徴の一つです。
更新空中で成膜されるため、膜が汚染される可能性が低く、スループットが早いので安価かつ高度な基板変形の少ない光学薄膜の供給が可能です。

特徴

用途例

コーティングの仕様

蒸着方式
光学特性(標準タイプ)
光学特性(UV-IRタイプ)
蒸着基板
外観仕様
厚さ

その他お客様のご要望に対応致します。

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